Influenţa unor amine aromatice asupra cineticii proceselor catodice de depunere a cuprului şi de degajare a hidrogenului din soluţii pe bază de acid sulfuric

Abstract

Teza elaborată are un accentuat caracter practic şi răspunde unei necesităţi industrilor producătoare de electronice şi energie, prin utilizarea soluţiilor de electrolit acide în prezenţa unor amine aromatice ca şi suport electrolitic de depunere galvanică respectiv de accelereare a procesului de degajare a hidrogenului. Aditivii utilizaţi în acest studiu au fost anilina (A), benzilamina (BA), N-metilanilina (MA), N,N-dimetilanilina (DMA), N-etilanilina (EA), N,N-dietilanilina (DEA), o-toluidina (oT), m-toluidina (mT) respectiv ptoluina (pT), în general compuşi din grupa aminelor aromatice.